سلام خدمت علاقمندان دنیای CG
با انتشار جدیدترین نسخه ی آنریل انجین 5 که حدود 2 هفته از انتشار آن میگذرد حالا از تمام ابزار های اولیه برای ساخت یک پروژه ی کامل در هر زمینه ای بهره مند هستیم و میتوانیم این نسخه را بصورت کامل جایگزین نسخه ی چهارم کنیم.
بیش از یک سال از آخرین مطلبی که درباره ی آنریل انجین گذاشته بودم گذشته و در این مدت سه آپدیت برای این موتور طراحی معرفی شده
در این پست به ترتیب به بررسی جزئی آپدیت های مهم هر نسخه ی معرفی شده میپردازیم.
نسخه ی 5.1
در این نسخه همانطور که انتظار میرفت، بهینه سازی های عمقی برای ابزار های جدید آنریل مانند Nanite, Lumen و VSM انجام شده که بر خلاف نسخه ی اول آنریل انجین 5، توسعه دهندگان قادر خواهند بود که با استفاده از این ابزار های جدید، بازی های خود را با 60 فریم ریت ثابت برای کنسول های نسل بعدی عرضه کنند.
اما مهم تر از اون پشتیبانی Nanite از متریال هایی هست که شامل Deformation و Animation می باشند
این به این معناست که حال شاهد این هستیم که ننایت از پوشش گیاهی وسیع با متریال های متحرک پشتیبانی خواهد کرد و برای اجرای صحنه هایی با جزئیات بالا و حجم های سنگین، (با هزینه ی کم برای پردازش سخت افزاری) یک قدم رو به جلو حرکت کنیم!
همچنین در این نسخه ابزار World Building آنریل با بهینه سازی مواجه شده که ابزار World Partition حالا از جهان های باز وسیع پشتیبانی خواهد کرد که توسعه دهندگان قادر خواهند بود جهان ها و چشم انداز های وسیعی را بدون کاهش جزئیات به اجرا در بیاورند.
همچنین بهینه سازی های فراوان برای پردازش بهتر و دسترسی راحت تر در بخش های VFX, Virtual Production, Broadcas and live events, Animation, Rigging, Modeling, Audio Systems, MassEntity, AI toolset و ... برای این نسخه انجام شده.
نسخه ی 5.2
در این نسخه اما از یک ابزار جدید تحت نام Procedural Content Generation یا PCG رونمایی شد
که با این ابزار جدید قادر هستیم که به ساخت محیط ها بصورت Procedural بدون نیاز به ابزار های خارجی، تماما داخل آنریل بپردازیم.
قبل از این برای ساخت Asset های Procedural نیازه به نرم افزار و framework خارجی (که اصلی ترین ابزار آن تحت نرم افزار sideFX Houdini بوده) داشتیم.
حالا این ابزار رو داخل آنریل داریم که توسط ابزار های ارائه شده ی PCG قادر به اجرای صحنه و تعریف و ترکیب آن با Gameplay پروژه هستیم، در این نسخه این ابزار در حالت Experimental قرار دارد که از طرف اپیک گیمز برای استفاده در محصولات نهایی توصیه نمیشود.
این محیط با کمک ابزار PCS ساخته شده
در نسخه ی اولیه ی آنریل انجین 5 همچنین ابزاری به نام Substrate وجود داشته که اپیک گیمز تا به این نسخه از آن نامی نبرده بوده
Substrate سیستم جدید متریال سازی آنریل هست که با فعال کردن Substrate شاهد جایگزین شدن آن با سیستم متریال سازی سابق آنریل انجین خواهیم بود، در این سیستم توسعه دهندگان کنترل بیشتری روی ساخت متریال ها بصورت BSDF دارند که میتوانیم با کمک این سیستم جدید متریال های فیزیکیِ چند لایه و عمیق تری برای پروژه ها بسازیم مانند Coating متریال بدنه ی ماشین.
این ابزار همچنین در حالت Experimental قرار دارد و برای استفاده در محصول نهایی توصیه نمیشود.
همچنین در این نسخه شاهد پشتیبانی کامل تمام ابزار های جدید آنریل انجین 5 برای پردازنده های توسعه داده شده برای محصولات شرکت Apple هستیم که این به نفع توسعه دهندگان خواهد بود.
در این نسخه ابزاری به اسم ML Deformer sample معرفی شده که قادر خواهد بود به کمک هوش مصنوعی انیمیشن و تغییر شکل حرکات عضلات زیر پوست و همچنین لباس Character ها رو با نتایج واقعی و طبیعی محاسبه و اجرا کند که منجر به بهبود انیمیشن در پروژه ها خواهد شد.
و حال نسخه ی 5.3
به نظر من بعد از این نسخه آنریل انجین به یک موتور کامل و آماده برای نسل بعدی پروژه های بازی سازی و نمایشی تبدیل شده که توسعه دهندگان قادر خواهند بود از تمام قابلیت های انقلابی جدید آنریل انجین 5 برای پروژه های اصلی به بهترین نحو بهره مند شوند.
در این نسخه اصلاحاتی در هسته ی رندرینگ آنریل انجین 5 انجام شده که باعث پایداری و پردازش کامل تر و بهتر ابزار های اصلی جدید نسخه ی پنجم مانند Nanite, Lumen و ... شده که باعث پردازش سریعتر و با کیفیت تر برای کنسول های بازی خواهد بود.
در آنریل 5.3 با Nanite قادر هستیم که کنترل بیشتر روی پوشش های گیاهی وسیع محیط داشته باشیم که در نهایت باعث افزایش کیفیت و Performance میشود زیرا بر خلاف نسخه ی قبلی در محیط هایی با پوشش گیاهی وسیع شاهد نصف شدن Performance بودیم که در این نسخه با راه حل های جدید و کنترل بیشتر و متمرکز روی این بخش قادر هستیم صحنه ی خود را به بهترین شکل مدیریت کنیم تا خروجی ای سبک، با کیفیت بالا داشته باشیم.
همچنین برای Lumen هم قادر هستیم کنترل بیشتری روی Bounce های Reflection محیط برای افزایش کیفیت سطوح بازتابنده داشته باشیم و همچنین شاهد بهینه سازی و افزایش پرفورمنس بر روی کنسول های بازی خواهیم بود.
سیستم سایه زنی VSM در این نسخه اپیک گیمز با توسعه ی فراوان آن را به حالت Production Ready دراورده که قادر هستیم برای محصولات نهایی از آن بدون دریافت خطا بهره مند شویم.
همچنین شاهد بهینه سازی و پیشرفت در Temporal Super Resolution (TSR), Substrate, Path tracing, Hair Groom و ... هستیم.
همچنین بهینه سازی برای Cooking پروژه ها با افزایش چشمگیر Package کردن پروژه ها، اضافه شدن ابزار Cine Cam Rig Rail برای شبیه سازی تصویر برداری محل دوربین های داخل صحنه با انعطاف پذیری بیشتر و واقعی تر، بهینه سازی سیستم Virtual Camera و بهینه سازی و افزایش سرعت نرم افزار آن بر روی iPad و کنترل بیشتر آن هستیم
از قابلیت جدیدی شگفت انگیز این نسخه که در حالت Experimental قرار دارد هم به Volumetric Rendering میتوانیم اشاره کنیم که از این به بعد قادر هستیم شبیه سازی های Volumetric حجمی سه بعدی را داخل آنریل هم با ابزار Niagara و هم وارد کردن شبیه سازی های انجام شده در نرم افزار های دیگر با پسوند Open VDB (.vdb) را بصورت Realtime و با نورپردازی Dynamic اجرا کنیم و در آینده میتوان جایگزین بسیار خوبی برای افزایش کیفیت چشمگیر پروژه های به جای سیستم شبیه سازی سابق در موتور های بازی سازی باشد.
در این نسخه با معرفی پنل ساخت Cloth تماما داخل آنریل انجین و شبیه سازی آن به کمک ML Simulation هستیم (Experimental) تا باعث کاهش نیاز کاربران به استفاده از نرم افزارهای جانبی و کاهش خطای پروژه و در نتیجه افزایش کیفیت نهایی شویم.
همچنین در این نسخه قادر به ویرایش Skeletal Mesh بصورت دستی خواهیم بود
قابلیت Orthographic rendering هم بصورت استایل فیلمبرداری خاص برای پروژه های معماری و بازی هم در این نسخه به آنریل اضافه شده تا کابران قادر باشند تا از این قابلیت برای پروژه های خاص خود استفاده کنند
و حال میرسیم به مهمترین و هیجان انگیز ترین بخش آپدیت این نسخه که اپیک گیمز بصورت رسمی از آن نامی نبرده و به این صورت فرض را بر این میگذاریم که این قابلیت هنوز در مراحل اولیه توسعه به سر میبرد و در حالت Experimental قرار دارد :
بازگشت Displacement !
همانطور که در مطالب قبلی به این مورد پرداخته بودیم، شاهد حذف کامل بخش Tessellation از نسخه ی پنجم آنریل انجین 5 بودیم که توسعه دهندگان آنریل در این باره گفته بودند که "شاید بتوانیم راه حل مناسبی برای این بخش پیدا کنیم، اما ممکن هست جواب بده یا نده !"
و حال شاهد بازگشت Displacement و Tessellation به آنریل هستیم آن هم تحت Nanite !!!
به این منظور که با اضافه کردن Displacement به صحنه ی خود شاهد کاهش Performance در پروژه نخواهیم بود !
در حال حاضر برای فعال کردن این قابلیت باید از دو Console Command زیر استفاده کنیم:
r.Nanite.AllowTessellation=1
r.Nanite.Tessellation=1
با تست هایی که در این بخش انجام دادم نتایج بسیار رضایت بخش و با کیفیت بوده ولی چون این قابلیت در حال توسعه قرار دارد، فعلا به نقد و بررسی آن نمی پردازیم.
مانند همیشه Epic Games سربلند از بخش توسعه ی نسخه ی پنجم آنریل انجین بیرون آمده و این روندِ هیجان انگیز همچنان ادامه دارد
به نظرم حال میتوانیم با توسعه های صورت گرفته در آنریل انجین 5 تا به امروز برای پروژه های اصلی خود بصورت کامل بر روی نسخه ی پنجم تکیه کنیم و از تمام ابزار های مورد نیاز برای پروژه های کامل و باکیفیت خود بهره مند باشیم.
مرسی که تا به اینجا با من همراه بودید
نظر شما در باره ی آنریل انجین 5 و مسیری که اپیک گیمز برای آن از دو سال گذشته تا به امروز طی کرده چیست ؟
دیدگاه خود را بنویسید